長年培ってきた技術、
新しい技術の実現。
ヒラノK&Eが生み出す
「コーティング技術」と
「走行技術」
研究開発施設「テクニカム」
technicum
お客様のための商品開発・研究・実験
生産機設計を全面サポート
研究開発施設「テクニカム」
当社は研究開発施設「テクニカム」を併設しております。
日々行っている独自の試験以外にも、お客様のご要望に応じて
装置を使用した各種実験を行うことが可能です。
具体的には、装置検討前の基礎実験から、装置仕様固めの為の
検証試験まで、必要に応じて実験を行います。
装置導入をご検討の際に、実験をご希望であればお気軽に
お問い合わせください。
テクニカムでは
以下の装置を保有しております
テスト機Wet&Dry成膜装置
適用基材
| 材質 | 各種高分子フィルム |
|---|---|
| 厚み | 20～200μm |
| 働幅 | 300mm（ロール幅350mm） |
| 巻径 | 最大φ250 |
| 長さ | 最大500m（厚み：50μmの場合） |
スペック・仕様
| 機械速度 | 0.1～5.0m/min（正転&逆転可) |
|---|---|
| 張力 | 20～120N |
| 薄膜形成法 | Wet：キャピラリーコーター Dry：デュアルカソード(2台) |
| 前処理方法 | 平行平板低温プラズマ放電 |
| 到達真空度 | 10-4Pa台(基材未装着) |
| メインポンプ | ターボ分子ポンプ、クライオコイル |
| 真空計 | キャンパシタンスマノメーター、等 |
| ガス | アルゴン、酸素、窒素 |
| モニター | プラズマモニター |
| 冷却加熱ユニット | Wet：常温～120℃/加熱ロール Dry：常温(水冷)/キャンロール |