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真空成膜装置

Products No / 001

スパッタリング装置(ロール幅:1300mm)

特徴
走行方式 水平型
成膜方式 スパッタ
基材 フィルム
用途 電子部品材料、光学膜
スペック・仕様
ロール幅 1,300mm
機械速度 0.5~10m/min
スパッタ源数 4台
設置エリア L8.7m×W13m×H4.4m
総重量 120Ton

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