ヒラノK&Eについて
会社沿革
Company History
ヒラノK&Eと、その前身である
ヒラノ光音・ヒラノエンテックの沿革を
紹介します
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1980年 8月 |
大阪市福島区に光音電気株式会社を設立 事業内容は真空成膜装置等産業機械の設計製造販売とアフターサービス |
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1987年 6月 |
株式会社ヒラノエンテックを設立 事業内容は株式会社ヒラノテクシードの製品納入先へのアフターサービスと 付属部品の制作・販売 |
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1987年 10月 |
光音電気株式会社は平野金属株式会社の100％出資子会社となる 真空技術の多角拡販を目指し、 経営強化を促進 |
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1987年 12月 |
光音電気株式会社は資本金を1,000万円に増資 |
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1989年 1月 |
光音電気株式会社からヒラノ光音株式会社へ社名変更 |
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1989年 1月 |
ヒラノ光音株式会社にて研究開発施設「テクニカム」に各種真空機器を設置 顧客の開発実験テストに貢献 |
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1990年 5月 |
ヒラノ光音株式会社が大阪市福島区から大阪市平野区へ移転 |
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1997年 8月 |
ヒラノ光音株式会社は資本金を3,000万円に増資 |
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2003年 7月 |
株式会社ヒラノテクシードから株式会社ヒラノエンテックへ繊維機械の設計・製作・販売権を移管 |
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2007年 10月 |
ヒラノ光音株式会社の研究開発施設「テクニカム」クリーンルーム化完了（クリーン度3,000以下） |
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2010年 3月 |
ヒラノ光音株式会社にて「螺旋走行式スパッタ装置」特許取得（特許第4472962号） |
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2014年 3月 |
ヒラノ光音株式会社が大阪市平野区から 株式会社ヒラノテクシード敷地内に新工場を建設し移転 新工場には20tクレーン設置、 クリーンルーム（クリーン度10,000以下）も併設 |
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2017年 4月 |
ヒラノ光音株式会社と株式会社ヒラノエンテックが合併し、 株式会社ヒラノK&Eへ社名変更 |
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2017年 6月 |
ISO14001認証取得 |
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2019年 8月 |
「ウエブの熱処理装置 省エネ達成」特許取得（特許第6571063号） |
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2019年 9月 |
「ウエブの熱処理装置 非製造時の省エネ達成」特許取得（特許第6592419号） |
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2021年 3月 |
「GFS間隔調整機構」特許取得（特許第6858365号） |
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2021年 3月 |
「真空変動しないベースプレート構造」特許取得（特許第6859307号） |
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2021年 7月 |
「キャンロール移動機構」特許取得（特許第6909196号） |
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2021年 10月 |
「成膜室均一形状」特許取得（特許第6959210号） |
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2022年 1月 |
「GFS絶縁シールド」特許取得（特許第7005896号） |
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2023年 6月 |
ISO9001認証取得 |
