技術情報

Technical Information

長年培ってきた技術、
新しい技術の実現。
ヒラノK&Eが生み出す
「コーティング技術」と
「走行技術」

研究開発施設「テクニカム」

technicum

お客様のための商品開発・研究・実験
生産機設計を全面サポート
研究開発施設「テクニカム」

当社は研究開発施設「テクニカム」を併設しております。
日々行っている独自の試験以外にも、お客様のご要望に応じて
装置を使用した各種実験を行うことが可能です。

具体的には、装置検討前の基礎実験から、装置仕様固めの為の
検証試験まで、必要に応じて実験を行います。

装置導入をご検討の際に、実験をご希望であればお気軽に
お問い合わせください。

テクニカムでは
以下の装置を保有しております

テスト機Wet&Dry成膜装置

適用基材

材質 各種高分子フィルム
厚み 20~200μm
働幅 300mm(ロール幅350mm)
巻径 最大φ250
長さ 最大500m(厚み:50μmの場合)

スペック・仕様

機械速度 0.1~5.0m/min(正転&逆転可)
張力 20~120N
薄膜形成法 Wet:キャピラリーコーター
Dry:デュアルカソード(2台)
前処理方法 平行平板低温プラズマ放電
到達真空度 10-4Pa台(基材未装着)
メインポンプ ターボ分子ポンプ、クライオコイル
真空計 キャンパシタンスマノメーター、等
ガス アルゴン、酸素、窒素
モニター プラズマモニター
冷却加熱ユニット Wet:常温~120℃/加熱ロール
Dry:常温(水冷)/キャンロール

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真空プロセス、繊維の乾燥・加工
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